ПЛАЗМА в физике и химии

ПЛАЗМА в физике и химии, четвёртое состояние вещества, частично или полностью ионизованный газ с практически одинаковой плотностью положит. и отрицат. зарядов. П. применяется в магнито-гидродинамич. генераторах, газоразрядных источниках света, лазерах, плазменной технологии (обработка материалов, напыление, травление, получение наноуглеродных материалов и др.), в области управляемого термоядерного синтеза.

В Башкортостане иссл. в области физики П. начаты в 60-е гг. 20 в. В УГАТУ разработаны вакуумные ионно-плазменные технологии нанесения покрытий на детали машин (В.В.Будилов, В.С.Мухин и др.), определены спектральные области для оптич. пирометрии низкотемпературной П. (А.Х.Шарфштейн). В ИОХ (И.И.Фурлей) и ИФМК (В.А.Мазунов, В.И.Хвостенко, О.Г.Хвостенко) ведутся иссл. свойств атомных и молекулярных ионов и их образования в П., построена теория излучения оптически толстой, полностью ионизированной нерелятивистской П. астрофиз. объектов (Е.С.Шиховцева). С 90-х гг. в БГУ (М.Х.Харрасов, Р.З.Шайхитдинов) проводятся иссл. низкотемпературной П., разработан способ управления степенью разделения компонентов бинарной смеси газов в П., построена теория образования кристаллич. структур в пылевой П. В УМПО низкотемпературную П. используют в технологии ионного азотирования (обработка в тлеющем разряде), в УМПО, на пр-тии “Гидравлика” и др. — в технологии вакуумного ионно-плазменного напыления (вакуумно-дуговые разряды). 

О.А.Скалдин, Р.З.Шайхитдинов

ВАКУУМНЫЕ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ